如题所述
常规工业纯水用户要求的工业纯水标准及有关的设备选型如下：（电导率和电阻率互为倒数）
1、工业纯水设备用途：五金电镀厂、生产镀件冲洗用水、线路板厂、抗氧化/微蚀冲洗纯水，工业纯水水质标准：电导率≤10～20μs/cm。
工业纯水设备系统选用：一级RO反渗透设备或阴阳离子交换复床设备。
2、工业纯水设备用途：塑胶电镀厂、生产镀件冲洗用水工业纯水水质标准：电导率≤10μs/cm。
工业纯水设备系统选用：一级RO反渗透设备或阴阳离子交换复床设备。
3、工业纯水设备用途：五金塑胶镀金银，生产镀件冲洗用水，工业纯水水质标准：电导率≤2μs/cm。
工业纯水设备系统选用：二级RO反渗透设备或高性能阴阳离子交换复床设备。
4、工业纯水设备用途：电子、电器厂、玻壳生产厂、铝合金生产厂、镀膜冲洗用纯水、印染用纯水、玻壳生产冲洗用水工业用纯水水质标准：电阻率≥2MΩ.CM即电导率0.5us/cm。
工业纯水设备系统选用：一级RO反渗透设备+混床或EDI，或高性能阴阳离子交换复床设备或普通阴阳床+混床。
5、工业纯水设备用途：精密五金组件厂、表面处理冲洗用纯水、工业纯水水质要求标准：电阻率≥5MΩ.CM。
工业纯水设备系统的选用：一级RO反渗透设备+混床或EDI，或高性能阴阳离子交换复床设备或普通阴阳床+混床。
6、工业纯水设备用途：镍氢电池、电子厂等工业用超纯水，工业纯水水质标准要求：电阻率≥10MΩ.CM。
工业纯水设备系统的选用：一级RO反渗透设备+混床或EDI，或高性能阴阳离子交换复床设备或普通阴阳床+混床。
7、工业纯水设备用途：半导体厂生产用超纯水电阻率≥15MΩ.CM液晶显示器厂LCD冲洗用超纯水电阻率≥12～15MΩ.CM。
工业纯水设备系统的选用：一级RO反渗透设备+混床或EDI，或高性能阴阳离子交换复床设备或普通阴阳床+混床。
8、工业纯水设备用途：彩色显示器生产厂、显象管冲洗超纯水、超薄浮法玻璃厂、镀膜玻璃厂镀膜用电子超纯水、实验室用、电子级超纯水、计算机厂、硬盘生产冲洗超水、电阻率≥18MΩ.CM。
工业纯水设备系统的选用：一级RO反渗透设备+混床或EDI+抛光混床+后置精密过滤系统。
常规工业纯水用户要求的工业纯水标准如下，及有关的设备选型如下：
1、工业纯水设备用途：五金电镀厂、生产镀件冲洗用水、线路板厂、抗氧化/微蚀冲洗纯水，工业纯水水质标准：电导率≤10～20μs/cm。
工业纯水设备系统选用：一级RO反渗透设备或阴阳离子交换复床设备。
2、工业纯水设备用途：塑胶电镀厂、生产镀件冲洗用水工业纯水水质标准：电导率≤10μs/cm。
工业纯水设备系统选用：一级RO反渗透设备或阴阳离子交换复床设备。
3、工业纯水设备用途：五金塑胶镀金银，生产镀件冲洗用水，工业纯水水质标准：电导率≤2μs/cm。
工业纯水设备系统选用：二级RO反渗透设备或高性能阴阳离子交换复床设备。
4、工业纯水设备用途：电子、电器厂、玻壳生产厂、铝合金生产厂、镀膜冲洗用纯水、印染用纯水、玻壳生产冲洗用水工业用纯水水质标准：电阻率≥2MΩ.CM即电导率0.5us/cm。
工业纯水设备系统选用：一级RO反渗透设备+混床或EDI，或高性能阴阳离子交换复床设备或普通阴阳床+混床。
5、工业纯水设备用途：精密五金组件厂、表面处理冲洗用纯水、工业纯水水质要求标准：电阻率≥5MΩ.CM。
工业纯水设备系统的选用：一级RO反渗透设备+混床或EDI，或高性能阴阳离子交换复床设备或普通阴阳床+混床。
6、工业纯水设备用途：镍氢电池、电子厂等工业用超纯水，工业纯水水质标准要求：电阻率≥10MΩ.CM。
工业纯水设备系统的选用：一级RO反渗透设备+混床或EDI，或高性能阴阳离子交换复床设备或普通阴阳床+混床。
7、工业纯水设备用途：半导体厂生产用超纯水电阻率≥15MΩ.CM液晶显示器厂LCD冲洗用超纯水电阻率≥12～15MΩ.CM。
工业纯水设备系统的选用：一级RO反渗透设备+混床（MB106UP)或EDI，或高性能阴阳离子交换复床设备或普通阴阳床+混床。
8、工业纯水设备用途：彩色显示器生产厂、显象管冲洗超纯水、超薄浮法玻璃厂、镀膜玻璃厂镀膜用电子超纯水、实验室用、电子级超纯水、计算机厂、硬盘生产冲洗超水、电阻率≥18MΩ.CM。
工业纯水设备系统的选用：一级RO反渗透设备+混床或EDI+MB-115/MB106UP抛光混床+后置精密过滤系统。
